什么是微弧氧化？微弧氧化膜層生長過程是怎樣的？

什么是微弧氧化？微弧氧化膜層生長過程是怎樣的？

微弧氧化技術(MAO)是在陽極氧化基礎上發展起來的一項新技術，是在含有特定離子的電解液中，通過弧光放電處理和電化學氧化的共同作用，在鋁、鎂、鈦等有色金屬及其合金材料表面原位產生一層與基體結合良好的陶瓷層的表面處理技術，膜層具有耐蝕性能高、硬度高、耐磨性能好、高阻抗、絕熱性能好等特點。

微弧氧化膜層生長時，首先在基體表面發生化學反應，生成一層陽極氧化膜。當增大反應電壓時，膜層厚度會進一步增加，繼續增加電壓，厚度會隨之增加。但是當反應電壓增加到一定程度時，膜層會由于不能承受該工作電壓發生放電擊穿，產生等離子放電。反應的高溫將使膜層發生熔融，基體元素由于處在富氧環境中，將形成氧化物。同時由于是在電解液中，熔融物將瞬間冷凝，在基體表面生成一層陶瓷。陶瓷膜的生成，將導致工作電壓進一步升高，膜層再次被擊穿，膜層厚度進一步增加。周而復始，膜層得以生長。