微弧氧化的基本原理及膜層特性

微弧氧化(MAO)是一種在輕金屬表面原位生長陶瓷氧化膜的新技術。美國五十年代在某些兵工廠開始研究陽極火花沉積,前蘇聯從七十年代中期開始獨立研究微弧氧化且具較高水平,八十年代中、后期以來微弧氧化研究已成為國際研究熱點并開始應用,九十年代初國內開始起步。微弧氧化采用較高的工作電壓,將工作區域由普通陽極氧化的法拉第區域引入到高壓放電區域。采用該技術可在鋁、鎂合金表面生長一層致密的陶瓷膜,這層保護膜 與基體結合力強、尺寸變化小,耐磨損、耐腐蝕、耐熱沖擊及絕緣性能得到極大改善,在航空、航天、機械、電子、裝飾等領域有廣泛應用前景。 

微弧氧化技術是一種直接在輕金屬表面原位生長陶瓷膜的新技術。其原理是將Al、Mg、Ti等輕金屬或其合金置于電解質水溶液中作為陽極，利用電化學方法在該材料的表面產生火花放電斑點，在熱化學、等離子體化學和電化學的共同作用下，獲得金屬氧化物陶瓷層的一種表面改性技術

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