微弧氧化膜層特性有哪些？

微弧氧化是一種在金屬表面原位生長陶瓷層的技術，又稱微弧等離子體氧化或陽極火花沉積，是一種特殊的陽極氧化。是采用了高電壓，大電流的工作方式。以處理過程中樣品表面出現火花現象為基本特征，是伴隨有電化學、熱化學以及等離子化學等多種類型反應同時發生的復雜過程。

　　微弧氧化膜層特性

　　微弧氧化膜具備了陽極氧化膜和陶瓷噴涂層兩者的優點：

　　高耐磨性

　　與基體結合力好

　　形狀復雜表面上成膜性好

　　處理工藝過程無環境污染

微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統以控制槽液溫度。