微弧氧化
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                在微弧氧化處理過程需要注意什么

                發布日期:2019-02-26 作者: 點擊:

                微弧氧化技術是直接在有色金屬表面原位生成陶瓷層的新技術。微弧氧化技術工藝簡單,對環境污染小,具備很大的優越性,它制備的膜層特點鮮明,膜層與基體金屬屬于冶金結合,結合牢固,在制備涂層方面具有明顯優勢,微弧氧化技術已被廣泛應用于al、ti和mg等金屬行業,是一種很有前景的表面處理工藝。

                微弧氧化技術目前仍存在一些不足之處,如工藝參數和配套設備的研究需進一步完善;氧化電壓較常規鋁陽極氧化電壓高得多,操作時要做好安全保護措施;以及電解液溫度上升較快,需配備較大容量的制冷和熱交換設備。

                在微弧氧化處理過程中,待氧化試樣與電源正極相連,作為陽極浸入電解液之中,不銹鋼電解槽作為陰極與電源負極相連。在開通電源后,正脈沖電壓快速升高,電流迅速下降,作為陽極的待氧化試樣開始進行陽極氧化,產生大量微小氣泡,同時在試樣表面形成了一層鈍化膜。當外加脈沖電壓超過一定值時,材料表面出現一層極其細微均勻的放電火花,這種微區火花放電現象在試樣表面不同位置出現,在待氧化合金表面原位生長陶瓷膜層,以達到強化材料表面的目的。


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