微弧氧化的產品性能

微弧氧化的產品性能

氧化層厚度：5μm~60μm(根據需要可以調整厚度)

結合力：剪切強度≥30MPa，拉伸強度≥70MPa

硬度：HV500~1500(根據需要可以調整硬度)

耐磨性：磨損率為4.9×10-7mm3/N·m(以碳化硅為摩擦副)

耐腐蝕性：鹽霧試驗300h以上，無明顯腐蝕

耐高溫：1300℃熱沖擊，5秒5次，氧化膜不脫落

微弧氧化氧化層生長速度：30~100μm/h

摩擦系數：約0.18(干摩擦)

微弧氧化過程中，具有電暈、火花、微弧、弧等多種放電形式。外加電壓大于約100V時，電壓從普通陽極氧化法拉第區進進高壓放電區，氧化膜開始被擊穿。當電壓大于700～800V時，進進弧放電區，樣品表面出現較大的弧點，并伴隨著尖銳的爆叫聲，它們會在膜表面形成一些小坑，破壞膜的性能，因此，工作電壓要控制在微弧放電區以下，使之不進進弧放電區。微弧氧化技術是一種環保型的表面強化處理技術，微弧氧化非常適合對鋁、鎂、鈦及其合金表面進行改性。利用微弧氧化弧光放電增強并激活在工件陽極上發生的微等離子體氧化反應，從而在以鋁、鈦、鎂等金屬及其合金為材料的工件表面原位生成的強化陶瓷膜。