(1)合金材料及表面狀態的影響
微弧氧化技術對鎂工件的合金成分要求不高,對工件表面狀態也要求不高,一般不需進行表面拋光處理。對于粗糙度較高的工件,經微弧氧化處理后表面得到修復變得更均勻平整;而對于粗糙度較低的工件,經微弧氧化后,表面粗糙度有所提高。
(2)電解質溶液及其組分的影響
微弧氧化電解液是獲到合格膜層的技術關鍵。不同的電解液成分及氧化工藝參數,所得膜層的性質也不同。
(3)氧化電壓及電流密度的影響
微弧氧化電壓和電流密度的控制對獲取合格膜層同樣至關重要。不同的材料和不同的氧化電解液,具有不同的微弧放電擊穿電壓
(4)溫度與攪拌的影響
與常規的陽極氧化不同,微弧氧化電解液的溫度允許范圍較寬,可在10—60℃條件下進行。雖然微弧氧化過程工件表面有大量氣體析出,對電解液有固定的攪拌作用,但為保證氧化溫度和體系組分的均勻,一般需配備電解液攪拌裝置。
(5)微弧氧化時間的影響
微弧氧化時間一般控制在10—60min。氧化時間越長,膜的致密性越好,但其粗糙度也增加。