影響微弧氧化效果的因素

微弧氧化又稱微等離子體氧化，是通過電解液與相應電參數的組合，在鋁、鎂、鈦及其合金表面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用，生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。

微弧氧化技術是一種在鋁、鎂、鈦等輕金屬合金表面原位生長陶瓷層的高新技術，其原理是在工件表面生成陽極化膜的同時，通過微電弧瞬時7000K高溫把極化膜轉為陶瓷相。該陶瓷層硬度高、高耐磨、韌性好、與基體結合力強、耐腐蝕、耐高溫氧化、絕緣性好，特別適用于高速運動且需要高耐磨、耐腐蝕、抗高溫沖擊的輕金屬合金零部件。俄、美、德、日本等國在航空、航天、兵器、汽車、船舶、機械等行業對該技術的應用已達到相當高的水平。

微弧氧化的主要影響因素：

1.工件材質及表面狀態

微弧氧化對鋁材要求不高，不管是含銅或是含硅的難以陽極氧化鋁合金，只要閥金屬比例占到40%以上，均可用于微弧氧化，且能得到理想膜層。

2.液體成分對氧化造成的影響

電解液成分是得到合格膜層的關鍵因素。微弧氧化液一般選用含有金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液，如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等。在相同的微弧電解電壓下，電解質濃度越大，成膜速度就越快，溶液溫度上升越慢，反之，成膜速度較慢，溶液溫度上升較快。

3.溫度對微弧氧化的影響

微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統以控制槽液溫度。

4.后處理對微弧氧化的影響

微弧氧化過后，工件可不經過任何處理直接使用，也可進行封閉，電泳，拋光等后續處理。