微弧氧化
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                外界因素對微弧氧化的影響

                發布日期:2017-09-15 作者: 點擊:

                微弧氧化的主要影響因素:

                1.工件材質及表面狀態

                (1)微弧氧化對鋁材要求不高,不管是含銅或是含硅的難以陽極氧化鋁合金,只要閥金屬比例占到40%以上,均可用于微弧氧化,且能得到理想膜層。

                (2)表面狀態一般不需要經過拋光處理,對于粗糙的表面,經過微弧氧化,可修復的平整光滑;對于粗糙度低(即光滑)的表面,則會增加粗糙度。

                2.液體成分對氧化造成的影響

                電解液成分是得到合格膜層的關鍵因素。微弧氧化液一般選用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液,如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等。在相同的微弧電解電壓下,電解質濃度越大,成膜速度就越快,溶液溫度上升越慢,反之,成膜速度較慢,溶液溫度上升較快。

                3.溫度對微弧氧化的影響

                微弧氧化與陽極氧化不同,所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高,成膜越快,但粗糙度也增加。且溫度高,會形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放,所以液體溫度上升較快,微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統以控制槽液溫度。

                4.時間對微弧氧化的影響

                微弧氧化時間一般控制在10~60min。氧化時間越長,膜的致密性越好,但其粗糙度也增加。

                5.陰極材料

                陰極材料可選用不銹鋼,碳鋼,鎳等,可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。

                6.后處理對微弧氧化的影響

                微弧氧化過后,工件可不經過任何處理直接使用,也可進行封閉,電泳,拋光等后續處理。

                微弧氧化.jpg

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